https://uk.finance.yahoo.com/news/asmls ... 29883.htmlASML's next chip challenge: rollout of its new $350 million 'High NA EUV' machine
Prvé zariadenie má Intel;
https://www.intel.com/content/www/us/en ... #gs.gq77d7
Od ASML;
https://www.asml.com/en/products/euv-li ... hy-systems
Prídam niečo od ChatGPT, také zhrnutie;
High-NA EUV (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet) litografia je technológia vyvíjaná spoločnosťou ASML s cieľom posunúť hranice fotolitografie, ktorá je kľúčová v procese výroby moderných polovodičov. Tento pokročilý prístup rozširuje možnosti Extreme Ultraviolet (EUV) litografie, ktorá už sama o sebe bola revolúciou oproti predošlým metódam, ako je napríklad Deep Ultraviolet (DUV).
Čo je to Numerical Aperture (NA)?
Numerical Aperture, čiže číselná apertúra, je vlastnosť optických systémov, ktorá hovorí o schopnosti zbierať svetlo a rozlíšiť detaily. Čím vyššia je NA, tým vyššie je rozlíšenie. Konvenčné EUV systémy používajú NA približne 0,33, zatiaľ čo High-NA EUV systémy majú NA 0,55, čo výrazne zvyšuje rozlíšenie.
Výhody High-NA EUV
1. Vyššie rozlíšenie: S vyšším NA môže High-NA EUV litografia vytvárať jemnejšie detaily na polovodičových čipoch, čím umožňuje zmenšovanie tranzistorov a medených spojov.
2. Možnosť pokročiť na menšie uzly: Technológia pomáha pri prechode na uzly menšie ako 3 nm, čím umožňuje výrobcov čipov (ako TSMC, Samsung alebo Intel) produkovať výkonnejšie a efektívnejšie čipy.
3. Znížená závislosť na viacnásobných expozíciách: High-NA EUV môže redukovať potrebu používať zložité viacnásobné expozície (multiple patterning), čo je náročné a drahé. Tým znižuje zložitosť a náklady.
Technologické výzvy
High-NA EUV litografia predstavuje zásadné výzvy, ktoré musí ASML vyriešiť, vrátane:
• Optická presnosť: Systémy s vyššou NA vyžadujú extrémne presné optické komponenty, aby dokázali zaostriť svetlo na také malé rozmery.
• Úprava maskových technológií: S vysokým NA sa zvyšujú aj požiadavky na kvalitu a dizajn masky, ktoré sa používajú na premietanie vzorov na wafer.
• Zložitosť výroby: Vysoká presnosť znamená náročnejší proces výroby, čo tiež ovplyvňuje cenu.
Súčasný vývoj a očakávania
ASML v súčasnosti spolupracuje s viacerými poprednými výrobcami polovodičov na vývoji prototypov a plánuje komerčnú dostupnosť High-NA EUV litografických strojov okolo roku 2025–2026. Úspešná implementácia tejto technológie môže zásadne ovplyvniť nielen výrobcov čipov, ale aj širšie odvetvie elektroniky, ktoré sa spolieha na vývoj výkonnejších a menších čipov.
